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 Effect of tin source temperature on the β-Ga2O3 film deposited by MOCVD tin源温度对MOCVD沉积β-Ga2O3薄膜的影响
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期刊：Materials Science and Engineering B 作者：Jiale Li; Sheng Wang; Wenji Li; Tao Zhang; Xusheng Tian; et al 出版日期：2024-01-31 |
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