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 Investigation of feature orientation and consequences of ion tilting during plasma etching with a three-dimensional feature profile simulator 相关领域
蚀刻（微加工）
微电子
特征（语言学）
材料科学
等离子体
背景（考古学）
方向（向量空间）
蒙特卡罗方法
纵横比（航空）
制作
等离子体刻蚀
感应耦合等离子体
光电子学
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Yiting Zhang; Chad M. Huard; Saravanapriyan Sriraman; Jun Belen; Alex Paterson; et al 出版日期：2016-11-22 |
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