| 标题 |
Interplay of plasma etch, strip and wet clean in patterning La2O3/HfO2-containing high-κ/metal gate stacks |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Microelectronic Engineering 作者:Ingrid Vos; David Hellin; Werner Boullart; Johan Vertommen 出版日期:2011 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)