Single photomask lithography for shape modulation of micropatterns

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标题	Single photomask lithography for shape modulation of micropatterns 用于微图案形状调制的单掩模光刻相关领域光掩模光刻光刻胶材料科学平版印刷术制作纳米技术计算光刻调制（音乐）抵抗过程（计算）多重图案计算机科学光电子学图层（电子）声学物理病理操作系统医学替代医学
网址	https://doi.org/10.1016/j.jiec.2019.12.034
DOI	10.1016/j.jiec.2019.12.034 doi
其它	期刊：Journal of Industrial and Engineering Chemistry - Korean Society of Industrial and Engineering Chemistry 作者：Sang Hun Lee; Sung Eun Seo; Kyung Ho Kim; Jiyeon Lee; Chul Soon Park; et al 出版日期：2020-04-01
求助人	咚咚锵在 2024-04-08 14:00:27 发布自山东，悬赏 10 积分
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