Electron cyclotron resonance ion stream etching of tantalum for x‐ray mask absorber

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标题	Electron cyclotron resonance ion stream etching of tantalum for x‐ray mask absorber
网址	https://pubs.aip.org/avs/jvb/article-pdf/11/1/37/6049285/37_...
DOI	10.1116/1.586723 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B 作者：M. Oda; A. Ozawa; H. Yoshihara 出版日期：1993-01-01
求助人	Nana 在 2026-07-17 16:40:06 发布自山东，悬赏 10 积分
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