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 Self‐Expansion Based Multi‐Patterning for 2D Materials Fabrication beyond the Lithographical Limit 基于自膨胀的多图案化用于超越光刻极限的二维材料制造
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期刊：Small 作者：Poonam Subhash Borhade; Tawat Chen; Ding‐Rui Chen; Yu‐Xiang Chen; Yu‐Chi Yao; et al 出版日期：2023-12-14 |
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