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标题
Single-step rapid trench filling with poly-Si using concentration dependence of deposition rate under a SiHCl3–H2 system
SiHCl3-H2体系下基于沉积速率浓度依赖性的多晶硅单步快速沟槽填充
相关领域
沟槽 沉积（地质） 蚀刻（微加工） 化学气相沉积 分解 材料科学 堵塞 分析化学（期刊） 气体压力 化学 纳米技术 色谱法 有机化学 地质学 图层（电子） 古生物学 考古 历史 石油工程 沉积物
网址
https://doi.org/10.1063/5.0083114
DOI
10.1063/5.0083114 doi
其它 期刊：AIP Advances
作者：Takanori Yamamoto; Kenji Nakashima; Takuma Kamijo
出版日期：2022-03-01
求助人
不想取名 在 2025-08-29 14:35:34 发布，悬赏 10 积分
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