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 Single-step rapid trench filling with poly-Si using concentration dependence of deposition rate under a SiHCl3–H2 system SiHCl3-H2体系下基于沉积速率浓度依赖性的多晶硅单步快速沟槽填充
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期刊：AIP Advances 作者：Takanori Yamamoto; Kenji Nakashima; Takuma Kamijo 出版日期：2022-03-01 |
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