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![]() 关于亚20nm DRAM技术短期负偏压温度不稳定性(NBTI)缺陷的理解
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Da Wang; Longda Zhou; Yongkang Xue; Pengpeng Ren; Zixuan Sun; et al 出版日期:2023-04-11 |
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2025-08-30 20:26:35 发布,悬赏 10 积分
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