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 The interplay of process parameters and influence on the AlN films on sapphire fabricated by DC magnetron sputtering and annealing 直流磁控溅射和退火工艺参数对蓝宝石AlN薄膜的影响
相关领域
材料科学
溅射
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期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：Huan Liu; Wei Guo 出版日期：2022-12-05 |
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郑多多啊
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