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Schottky barrier diodes fabricated on high-purity type-IIa CVD diamond substrates using an all-ion-implantation process
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网址
DOI
10.35848/1347-4065/abf6e7 doi
其它 期刊:Japanese Journal of Applied Physics
作者:Seiya Shigematsu; Toshiyuki Oishi; Yuhei Seki; Yasushi Hoshino; Jyoji Nakata; et al
出版日期:2021-04-12
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绵绵球 在 2025-10-11 19:42:48 发布自福建,悬赏 10 积分
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