| 标题 |
Evaluation of pH and deposition mechanisms effect on tin sulfide thin films deposited by chemical bath deposition pH和沉积机理对化学浴沉积硫化锡薄膜影响的评价
相关领域
X射线光电子能谱
薄膜
化学浴沉积
材料科学
正交晶系
锡
沉积(地质)
太阳能电池
氢氧化物
分析化学(期刊)
结块
化学工程
无机化学
纳米技术
化学
结晶学
晶体结构
冶金
复合材料
光电子学
工程类
沉积物
古生物学
生物
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Superlattices and Microstructures 作者:A. Higareda-Sánchez; R. Mis-Fernández; I. Rimmaudo; E. Camacho-Espinosa; Juan Luis Ruiz de la Peña 出版日期:2021-02-03 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|