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标题
(100) Silicon Etch‐Rate Dependence on Boron Concentration in Ethylenediamine‐Pyrocatechol‐Water Solutions
（100）乙二胺-焦儿茶酚-水溶液中硅蚀刻速率对硼浓度的依赖性
相关领域
硅 硼 蚀刻（微加工） 腐蚀坑密度 分析化学（期刊） 乙二胺 缓冲氧化物腐蚀 兴奋剂 化学 反应速率 材料科学 无机化学 反应离子刻蚀 纳米技术 冶金 光电子学 图层（电子） 催化作用 色谱法 有机化学 生物化学
网址
https://doi.org/10.1149/1.2115500
DOI
10.1149/1.2115500 doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：N.F. Raley; Yuichi Sugiyama; T. Van Duzer
出版日期：1984-01-01
求助人
Planck 在 2025-05-13 11:36:21 发布自浙江，悬赏 10 积分
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