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  Doping challenges and pathways to industrial scalability of III–V nanowire arrays III-V纳米线阵列工业可扩展性的掺杂挑战和途径
相关领域
纳米技术
可扩展性
兴奋剂
纳米线
掺杂剂
材料科学
背景（考古学）
制作
分子束外延
计算机科学
前提
外延
工程物理
光电子学
工程类
生物
数据库
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图层（电子）
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期刊：Applied Physics Reviews 作者：Wonjong Kim; Lucas Güniat; Anna Fontcuberta i Morral; Valerio Piazza 出版日期：2021-01-12 |
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