Molecular layer deposition of an Al-based hybrid resist for electron-beam and EUV lithography

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标题	Molecular layer deposition of an Al-based hybrid resist for electron-beam and EUV lithography 电子束和EUV光刻用铝基混合抗蚀剂的分子层沉积相关领域抵抗极紫外光刻材料科学极端紫外线平版印刷术电子束光刻微电子光刻纳米技术光电子学图层（电子）薄膜光学物理激光器
网址	https://doi.org/10.1117/12.2657636
DOI	10.1117/12.2657636 doi
其它	期刊：作者：Ajay Ravi; Jingwei Shi; Jacqueline Lewis; Stacey F. Bent 出版日期：2023-05-01
求助人	whatwhat 在 2024-01-06 00:47:21 发布自天津，悬赏 10 积分
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