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Challenges and Solutions of Replacement Metal Gate Patterning to Enable Gate-all-Around Device Scaling
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期刊:Solid State Phenomena 作者:Yusuke Oniki; Lars Åke Ragnarsson; Hideaki Iino; Daire Cott; Boon Teik Chan; et al 出版日期:2021 |
求助人 |
thremo 在
2021-08-25 15:24:21 发布,悬赏 30 积分
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