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Impact of high-power impulse magnetron sputtering pulse width on the nucleation, crystallization, microstructure, and ferroelectric properties of hafnium oxide thin films
高功率脉冲磁控溅射脉冲宽度对氧化铪薄膜成核、结晶、微观结构和铁电性能的影响
相关领域
高功率脉冲磁控溅射 材料科学 成核 铁电性 微观结构 溅射沉积 结晶 粒度 分析化学（期刊） 薄膜 溅射 光电子学 电介质 复合材料 纳米技术 化学 有机化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1116/6.0003307
AI链接 osti.govdoi.org
DOI
10.1116/6.0003307 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Samantha T. Jaszewski; Shelby S. Fields; Ching‐Chang Chung; Jacob L. Jones; Keithen G. Orson; et al
出版日期：2024-02-01
求助人
chnningji 在 2025-12-28 11:14:29 发布自山东，悬赏 10 积分
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