标题 |
Amorphous Indium Gallium Zinc Oxide Semiconductor Thin Film Transistors Using O2 Plasma Treatment on the SiNx Gate Insulator
SiNx栅绝缘体O2等离子体处理非晶铟镓锌氧化物半导体薄膜晶体管
相关领域
薄膜晶体管
材料科学
无定形固体
退火(玻璃)
光电子学
溅射沉积
溅射
阈值电压
场效应
薄脆饼
薄膜
分析化学(期刊)
晶体管
电气工程
冶金
纳米技术
电压
化学
结晶学
图层(电子)
工程类
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|