Effect of the number and distribution of Al2O3 atomic layer deposition cycles within HfO2 layer on ferroelectric characteristics

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标题	Effect of the number and distribution of Al2O3 atomic layer deposition cycles within HfO2 layer on ferroelectric characteristics HfO2层内Al2O3原子层沉积循环次数和分布对铁电特性的影响相关领域原子层沉积图层（电子）材料科学铁电性沉积（地质）纳米技术光电子学电介质地质学古生物学沉积物
网址	https://doi.org/10.1063/5.0202549
DOI	10.1063/5.0202549 doi
其它	期刊：Applied physics letters 作者：Hyoungjin Park; Jihyeon Jeong; Hyun‐Wook Kim; Eunryeong Hong; Nayeon Kim; et al 出版日期：2024-03-25
求助人	嘿嘿在 2024-04-27 16:00:51 发布自陕西，悬赏 10 积分
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