Achieving excellent ferroelectric and dielectric performance of HfO2/ZrO2/HfO2 thin films under low operating voltage

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标题	Achieving excellent ferroelectric and dielectric performance of HfO2/ZrO2/HfO2 thin films under low operating voltage
网址	https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2023.172267
DOI	10.1016/j.jallcom.2023.172267 doi
其它	期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Fei Yan; Jiajia Liao; Ke Cao; Shijie Jia; Yichun Zhou; et al 出版日期：2023-09-20
求助人	Jie 在 2026-07-13 17:41:55 发布自上海，悬赏 10 积分
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