Thermal management of EUV lithography masks using low-expansion glass substrates

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标题	Thermal management of EUV lithography masks using low-expansion glass substrates
网址	https://doi.org/10.1117/12.351133
DOI	10.1117/12.351133 doi
其它	期刊：Emerging Lithographic Technologies III 作者：Yuli Vladimirsky; Steven E. Gianoulakis; Avijit K. Ray-Chaudhuri; Scott D. Hector 出版日期：1999
求助人	AN 在 2026-06-11 11:30:02 发布自广东，悬赏 20 积分
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