标题 |
Self-healing LDMOSFET for high-voltage application on high-k/metal gate CMOS process
用于高k/金属栅CMOS工艺的高压自愈合LDMOSFET
相关领域
材料科学
MOSFET
降级(电信)
CMOS芯片
金属浇口
泄漏(经济)
光电子学
基质(水族馆)
自愈
热载流子注入
电压
电气工程
电子工程
栅氧化层
工程类
晶体管
医学
海洋学
替代医学
病理
地质学
经济
宏观经济学
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其它 |
期刊: 作者:Jih-Chien Liao; P.K. Ko; M. H. Hsieh; Zheng Zeng 出版日期:2020-04-01 |
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