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Inductively coupled plasma etching of HgCdTe using a CH4-based mixture
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网址
http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s11664-005-0013...
DOI
10.1007/s11664-005-0013-9 doi
其它 期刊：Journal of Electronic Materials
作者：E. Laffosse; J. Baylet; J. Chamonal; G. Destefanis; G. Cartry; et al
出版日期：2005-06-01
求助人
Naruto 在 2026-08-23 10:42:35 发布自云南，悬赏 10 积分
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