A highly manufacturable low-k ALD-SiBN process for 60nm NAND flash devices and beyond

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标题	A highly manufacturable low-k ALD-SiBN process for 60nm NAND flash devices and beyond
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/9719/30682/01419380.pdf?...
DOI	10.1109/iedm.2004.1419380 doi
其它	期刊：IEDM Technical Digest. IEEE International Electron Devices Meeting, 2004. 作者：Jin-Gyun Kim; Jae-young Ahn; Hong-Suk Kim; Ju-Wan Lim; Chaesung Kim; et al 出版日期：2004-12-13
求助人	顺心雪卉在 2026-10-09 14:45:21 发布自四川，悬赏 10 积分
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