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![]() 界面工程满足工艺优化:通过预压延聚偏二氟乙烯-MgO涂层获得高度稳定的硅石墨阳极
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期刊:Chemical Engineering Journal 作者:Chih‐Yang Lin; Claudia Chien; Yu‐Ting Weng; Chia‐Chen Fang; Nae‐Lih Wu; et al 出版日期:2025-08-01 |
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