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 Two-step etch in n-on-p type-II superlattices for surface leakage reduction in mid-wave infrared megapixel detectors 用于中波红外百万像素探测器表面泄漏减少的N-on-P II型超晶格两步蚀刻
相关领域
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期刊：Opto-Electronics Review 作者：David Ramos; M. Delmas; Ruslan Ivanov; Laura Žurauskaitė; D. R. Evans; et al 出版日期：2023-02-24 |
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