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Five-step plasma-enhanced atomic layer etching of silicon nitride with a stable etched amount per cycle
稳定刻蚀量的氮化硅五步等离子体增强原子层刻蚀
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期刊:Japanese journal of applied physics 作者:Akiko Hirata; Masanaga Fukasawa; Jomar U. Tercero; K. Kugimiya; Yoshiya Hagimoto; et al 出版日期:2022-05-23 |
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