Mitigation of shunt in poly-Si/SiO passivated interdigitated back contact monocrystalline Si solar cells by self-aligned etching between doped fingers

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标题	Mitigation of shunt in poly-Si/SiO passivated interdigitated back contact monocrystalline Si solar cells by self-aligned etching between doped fingers 掺杂指间自对准刻蚀抑制多晶硅/硅钝化交错背接触单晶硅太阳电池的分流相关领域单晶硅兴奋剂蚀刻（微加工）材料科学光电子学钝化多晶硅太阳能电池晶体硅硅纳米技术薄膜晶体管图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.solmat.2023.112195
DOI	10.1016/j.solmat.2023.112195 doi
其它	期刊：Solar Energy Materials and Solar Cells 作者：Matthew B. Hartenstein; William Nemeth; Kejun Chen; Vincenzo LaSalvia; San Theingi; et al 出版日期：2023-04-01
求助人	通大sup的王在 2024-04-29 22:44:36 发布自江苏，悬赏 10 积分
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