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[求助补充材料]
 Optimizing chemical vapor deposition reactor design and thickness uniformity for ultra-thick epitaxy technology 优化超厚外延技术的化学气相沉积反应器设计和厚度均匀性
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期刊：Vacuum 作者：Chenguang Sun; Wenjie Shen; Huayi Cai; Hui Zhang; Lingfeng Zhu; et al 出版日期：2024-12-04 |
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