Design and Topology Optimization of a Novel Normal-Stressed Electromagnetic XY Nanopositioning Stage

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标题	Design and Topology Optimization of a Novel Normal-Stressed Electromagnetic XY Nanopositioning Stage 一种新型正应力电磁XY纳米定位台的设计与拓扑优化
网址	https://doi.org/10.1109/TIE.2025.3561834
DOI	10.1109/TIE.2025.3561834 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Industrial Electronics 作者：Dongpo Zhao; Li Chen; Zi-Hui Zhu; Wen Wang; Hanheng Du 出版日期：2025
求助人	论文小子在 2025-05-07 14:42:31 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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