Finding practical phenomenological models that include both photoresist behavior and etch process effects

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标题	Finding practical phenomenological models that include both photoresist behavior and etch process effects 寻找包括光刻胶行为和蚀刻工艺效应的实用现象学模型相关领域光刻胶计算机科学抵抗平版印刷术过程（计算）半导体工业组分（热力学）半导体器件制造多重图案材料科学可靠性工程纳米技术光电子学制造工程物理图层（电子）薄脆饼工程类热力学操作系统
网址	https://doi.org/10.1117/12.2087096
DOI	10.1117/12.2087096 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Sunwook Jung; Thuy Do; John L. Sturtevant 出版日期：2015-03-17
求助人	jun 在 2025-05-31 08:02:36 发布自北京，悬赏 20 积分
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