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 Sampling-based imaging model for fast source and mask optimization in immersion lithography 浸没光刻中基于采样的快速源和掩模优化成像模型
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期刊：Applied Optics 作者：Yiyu Sun; Yanqiu Li; Guanghui Liao; Yuan Miao; Pengzhi Wei; et al 出版日期：2021-12-14 |
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