Atomic-scale study on particle movement mechanism during silicon substrate cleaning using ReaxFF MD

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标题	Atomic-scale study on particle movement mechanism during silicon substrate cleaning using ReaxFF MD 使用ReaxFF MD进行硅基片清洁过程中颗粒运动机制的原子级研究相关领域雷亚克夫薄脆饼基质（水族馆）硅材料科学纳米颗粒化学机械平面化化学工程粒子（生态学）分子动力学纳米技术化学抛光复合材料冶金计算化学原子间势海洋学地质学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.commatsci.2022.111751
DOI	10.1016/j.commatsci.2022.111751 doi
其它	期刊：Computational Materials Science 作者：Qinyang Zeng; Changkun Li; Dewen Zhao; Xinchun Lu 出版日期：2022-09-01
求助人	就这样吧在 2025-08-30 00:16:26 发布自河南，悬赏 10 积分
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