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Temperature sensitive analytical analysis of gate‐stack dual metal nanowire field‐effect transistor (4H‐SiC)
栅堆叠双金属纳米线场效应晶体管(4H-SiC)的温度敏感分析
相关领域
材料科学 纳米线 堆栈(抽象数据类型) 场效应晶体管 跨导 光电子学 晶体管 金属浇口 栅氧化层 电气工程 工程类 计算机科学 电压 程序设计语言
网址
DOI
10.1002/jnm.3065 doi
其它 期刊:International Journal of Numerical Modelling Electronic Networks Devices and Fields
作者:Neeraj Neeraj; Shobha Sharma; Anubha Goel; Sonam Rewari; Radhey S. Gupta
出版日期:2022-09-16
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