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 Optimizing Oxygen Plasma Treatment Time to Improve the Characteristics of a-IGZO Thin-Film Transistors and Resistive-Load Inverters 优化氧等离子体处理时间以改善a-IGZO薄膜晶体管和阻性负载逆变器的特性
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期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Jae‐Yun Lee; Gergely Tarsoly; Fei Shan; Sung‐Jin Kim 出版日期：2022-02-18 |
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