Process control of contact holes for sub-half-micron CMOS technology

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标题	Process control of contact holes for sub-half-micron CMOS technology 亚半微米CMOS工艺中接触孔的工艺控制相关领域抵抗材料科学 CMOS芯片光电子学过程（计算）蚀刻（微加工）纳米技术薄膜工程物理计算机科学工程类图层（电子）操作系统
网址	https://doi.org/10.1016/s0167-9317(98)00029-x
DOI	10.1016/s0167-9317(98)00029-x doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Brian Martin; Graham G. Arthur; Charles L. Brown 出版日期：1998-03-01
求助人	开朗雪巧在 2023-10-08 22:41:42 发布自上海，悬赏 10 积分
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