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标题
Lithographic performance of resist ma-N 1402 in an e-beam/i-line stepper intra-level mix and match approach
相关领域
抵抗 步进电机 平版印刷术 电子束光刻 光学 材料科学 光刻 极紫外光刻 X射线光刻 下一代光刻 光电子学 纳米技术 图层（电子） 物理
网址
https://doi.org/10.1117/12.2639447
AI链接 fraunhofer.dedoi.org
DOI
10.1117/12.2639447 doi
其它 期刊：
作者：CANSU HANIM CANPOLAT SCHMIDT; G. Heldt; C. Helke; Anja Voigt; Danny Reuter
出版日期：2022-11-01
求助人
无辜豪英 在 2026-01-05 10:36:49 发布自重庆，悬赏 20 积分
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