| 标题 |
Ion implantation for silicon device manufacturing: A vacuum perspective 相关领域
爆炸物
污染
薄脆饼
污染控制
材料科学
离子注入
消耗品
离子束
掺杂剂
真空电弧
纳米技术
核工程
离子
兴奋剂
工程物理
工艺工程
光电子学
化学
电气工程
阴极
工程类
有机化学
物理化学
生态学
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Michael Current 出版日期:1996-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)