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  Studying resist performance for contact holes printing using EUV interference lithography 用EUV干涉光刻技术研究接触孔印刷的抗蚀剂性能
相关领域
极紫外光刻
抵抗
干涉光刻
平版印刷术
干扰（通信）
材料科学
接触印刷品
光电子学
纳米技术
光学
物理
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复合材料
电信
制作
替代医学
图层（电子）
病理
频道（广播）
医学
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| 其它 |
期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Xiaolong Wang; Li‐Ting Tseng; Dimitrios Kazazis; Zuhal Taşdemir; Michaela Vockenhuber; et al 出版日期：2019-01-14 |
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