| 标题 |
  High-Frequency Artifacts-Resistant Image Watermarking Applicable to Image Processing Models 适用于图像处理模型的抗高频伪像图像水印
相关领域
数字水印
水印
频域
计算机科学
人工智能
嵌入
图像（数学）
计算机视觉
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| 其它 |
期刊：Applied Sciences 作者：Zhang Li; Xinpeng Zhang; Hanzhou Wu 出版日期：2024-02-12 |
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