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 Al2O3/HfO2 Multilayer High‐k Dielectric Stacks for Charge Trapping Flash Memories 用于电荷俘获闪存的Al2O3/HfO2多层高k电介质堆叠
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期刊：physica status solidi (a) 作者：D. Spassov; A. Paskaleva; T. Krajewski; E. Guziewicz; G. Łuka; et al 出版日期：2018-03-26 |
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