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 Focus ring geometry influence on wafer edge voltage distribution for plasma processes 聚焦环几何形状对等离子体工艺晶片边缘电压分布的影响
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yuhua Xiao; Yao Du; Carl L. Smith; Sang Ki Nam; Hoki Lee; et al 出版日期：2021-06-11 |
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