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标题
Focus ring geometry influence on wafer edge voltage distribution for plasma processes
聚焦环几何形状对等离子体工艺晶片边缘电压分布的影响
相关领域
薄脆饼 电压 材料科学 GSM演进的增强数据速率 光学（聚焦） 光电子学 等离子体刻蚀 电气工程 蚀刻（微加工） 光学 物理 工程类 纳米技术 图层（电子） 电信
网址
https://doi.org/10.1116/6.0000981
DOI
10.1116/6.0000981 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Yuhua Xiao; Yao Du; Carl L. Smith; Sang Ki Nam; Hoki Lee; et al
出版日期：2021-06-11
求助人
核桃 在 2025-09-06 17:22:02 发布自湖北，悬赏 10 积分
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