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标题
Effects of nitrogen plasma treatment on the electrical property and band structure of few-layer MoS2
氮等离子体处理对少层MoS 2电性能和能带结构的影响
相关领域
工作职能 氮气 等离子体 材料科学 无线电频率 费米能级 化学气相沉积 工作（物理） 射频功率放大器 电阻率和电导率 图层（电子） 光电子学 电子 分析化学（期刊） 原子物理学 化学 纳米技术 热力学 物理 电气工程 工程类 有机化学 量子力学 放大器 CMOS芯片 色谱法
网址
https://doi.org/10.1063/1.4939978
DOI
10.1063/1.4939978 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Ting-Hong Su; Yow-Jon Lin
出版日期：2016-01-18
求助人
月月 在 2025-09-20 21:40:17 发布自江苏，悬赏 10 积分
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