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 Effects of nitrogen plasma treatment on the electrical property and band structure of few-layer MoS2 氮等离子体处理对少层MoS 2电性能和能带结构的影响
相关领域
工作职能
氮气
等离子体
材料科学
无线电频率
费米能级
化学气相沉积
工作（物理）
射频功率放大器
电阻率和电导率
图层（电子）
光电子学
电子
分析化学（期刊）
原子物理学
化学
纳米技术
热力学
物理
电气工程
放大器
有机化学
工程类
量子力学
CMOS芯片
色谱法
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Ting-Hong Su; Yow-Jon Lin 出版日期：2016-01-18 |
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