Aberration optimization in an extreme ultraviolet lithography projectorvia a BP neural network and simulated annealing algorithm

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标题	Aberration optimization in an extreme ultraviolet lithography projectorvia a BP neural network and simulated annealing algorithm
网址	https://doi.org/10.1364/ao.417093
DOI	10.1364/ao.417093 doi
其它	期刊：Applied Optics 作者：Rongbo Zhao; Lisong Dong; Rui Chen; Yayi Wei 出版日期：2021-01-08
求助人	hwj 在 2026-04-22 16:15:18 发布自吉林，悬赏 10 积分
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