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 Cocktail Precursor Approach for Homogeneous ALD InGaO Film Growth Overcoming Limits of Mobility–Reliability Trade-Off in Oxide Semiconductors 相关领域
材料科学
原子层沉积
氧化物
铟
热稳定性
半导体
退火（玻璃）
镓
化学工程
纳米技术
同种类的
化学气相沉积
沉积（地质）
图层（电子）
纳米
化学稳定性
纳米棒
光电子学
基质（水族馆）
薄膜
场效应晶体管
薄膜晶体管
电子迁移率
热的
降级（电信）
晶体管
薄脆饼
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Seong-Hwan Ryu; Dong-Gyu Kim; Haklim Koo; Kyuhyun Yeom; Dae Won Ryu; et al 出版日期：2026-01-22 |
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