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![]() 通过铂颗粒辅助蚀刻高掺杂p型硅形成复合多孔结构:硅中电荷流动的评估
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期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:Ayumu Matsumoto; Kyohei Azuma; Kyohei Furukawa; Rin Nishinaka; Shinji Yae 出版日期:2022-10-01 |
求助人 |
Geek_xu
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