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Understanding the evolution of trench profiles in the via-first dual damascene integration scheme 相关领域
沟槽
铜互连
光刻胶
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铜
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Tom Kropewnicki; K. Doan; Betty Tang; C. Bjorkman 出版日期:2001-07-01 |
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