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 Radiation-Sensitive Novel Polymeric Resist Materials: Iterative Synthesis and Their EUV Fragmentation Studies 辐射敏感新型聚合物抗蚀剂材料：迭代合成及其极紫外碎裂研究
相关领域
材料科学
极紫外光刻
聚合
聚合物
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抵抗
甲基丙烯酸甲酯
凝胶渗透色谱法
高分子化学
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：V. S. V. Satyanarayana; Felipe Kessler; Vikram Singh; Francine R. Scheffer; Daniel E. Weibel; et al 出版日期：2014-02-27 |
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