Contour-based metrology and feature classification of curvilinear EUV mask patterns for 0.55-NA lithography

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标题	Contour-based metrology and feature classification of curvilinear EUV mask patterns for 0.55-NA lithography
网址	https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of...
DOI	10.1117/12.3125648 doi
其它	期刊：Photomask Technology 2026 作者：B. Baskaran; J. Bekaert; K. Miyaguchi; D. Trivkovic; Soobin Hwang; et al 出版日期：2026-10-23
求助人	喜悦的捕在 2026-11-02 14:50:19 发布自北京，悬赏 20 积分
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