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  Defect characterization in synthetic high-purity quartz for EUV lithography EUV光刻用合成高纯石英的缺陷表征
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. 半导体级石英砂缺陷分析（2022） Title: Defect characterization in synthetic high-purity quartz for EUV lithography Authors: Wagner, P., et al. Journal: Microelectronic Engineering (2022) DOI: 10.1016/j.mee.2022.111876 亮点: 极紫外光刻用合成石英砂的缺陷控制技术。 |
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