Enhancing Carrier Mobility in Monolayer MoS2 Transistors with Process-Induced Strain

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标题	Enhancing Carrier Mobility in Monolayer MoS2 Transistors with Process-Induced Strain
网址	http://dx.doi.org/10.1021/acsnano.4c01457
DOI	10.1021/acsnano.4c01457 doi
其它	期刊：ACS Nano 作者：Yue Zhang; He Lin Zhao; Siyuan Huang; M. Abir Hossain; Arend M. van der Zande 出版日期：2024-05-03
求助人	emchavezangel 在 2026-09-14 22:09:23 发布自西班牙，悬赏 10 积分
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